一、行業簡（jiǎn）介
        半導（dǎo）體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示（shì）、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也（yě）越高。目前我國電子工業部把電子級（jí）水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應用範圍
1、電子（zǐ）、電力、電鍍、照明電器、實驗室（shì）、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製（zhì）藥、石油、化工、鋼鐵、玻（bō）璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用（yòng）純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造（zào）、半導體芯片、半（bàn）導體封裝 、引（yǐn）線（xiàn）櫃架、集成電路、液晶顯示器（qì）、導電玻璃、顯像管、線路（lù）板、光通信、電腦元（yuán）件、電容器潔淨產品及各種元器件等生產工藝用純水。
三（sān）、工藝簡介
1、係統模塊化設計，共分四（sì）部分：預處理（lǐ）係統、反滲透係統（tǒng）、EDI係統、終端（duān）供（gòng）水係統。
2、預處（chù）理係（xì）統主要用（yòng）來（lái）去（qù）除原水中的懸（xuán）浮物、濁度、色度、膠體以及部分有（yǒu）機物，保證產（chǎn）水符（fú）合反滲透係統的進水水質要求。
3、反滲透係（xì）統主要用來去除原水中溶解性鹽類（lèi）物質、細菌（jun1）、熱源等，保證（zhèng）產水符合EDI係統進水水質要（yào）求（qiú）。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進行（háng）進一步脫除溶解性的小分子鹽類物質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以上（shàng）。
5、終端供水係統主要是用來將合格水輸送（sòng）至用水點，輸送過程中對EDI產生進行最後的離子交換脫鹽，使（shǐ）得產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四、技術特色
1、係統模塊化設計，占地麵積小，操作維護方便，安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套係（xì）統實現全自動化運行，並且手動與自動自（zì）由切換。
3、設備產水水質穩定，運行連續穩定。
4、係統工藝先進，無需（xū）化學藥（yào）品再（zài）生，無危害性廢液排放。
5、係統（tǒng）節水率高，係統回收率在75%以上。
6、關鍵（jiàn）部位（wèi）采用在線儀（yí）表監測，適時數據上傳（chuán）。
五、設備參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透（tòu）≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水（shuǐ）符合《電子超純水國家標（biāo）準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業純水（shuǐ）指標。
3、單（dān）支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。